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        當前位置:首頁產品中心材料科學檢測設備沈陽科學儀器PVD500高真空磁控濺射薄膜沉積系統
        高真空磁控濺射薄膜沉積系統

        產品簡介

        產品概述:
        本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業專用的軟件控制系統。

        產品型號:PVD500
        更新時間:2026-01-19
        廠商性質:經銷商
        訪問量:226
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        產品概述:
        本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業專用的軟件控制系統。

         

        設備特點:

        本設備是一個鍍膜平臺,可把磁控靶拆下換電子槍成為電子束鍍膜系統、或換蒸發源作為熱蒸發系統、或換上離子槍作為離子束鍍膜系統等。

        設備用途:
        用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
         

        PVD500產品參數:

        真空室結構:方形前開門

        真空室尺寸:φ500x500x500mm

        極限真空度:≤3.0E-5Pa

        沉積源:永磁靶4套,φ2英寸

        樣品尺寸,溫度:φ4英寸,1片,最高800℃

        占地面積(長x寬x高):約2米×1.7米×2米

        電控描述:全自動

        工藝:片內膜厚均勻性:≤±3%


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